【集萃網(wǎng)觀察】前言
活性印花布手感好、物理性能指標(biāo)高、色譜齊全,但在生產(chǎn)的具體操作中.活性印花特別是活性圓網(wǎng)印花很難生產(chǎn)出精細(xì)花型。一根2.5mm(25絲)的線(xiàn)條已是活性印花實(shí)際生產(chǎn)中的細(xì)度極限,而涂料印花的線(xiàn)條細(xì)度卻能夠達(dá)到1.5mm(15絲)左右。從活性印花色漿體系分析,活性印花糊料存在透網(wǎng)性和抱水性較差的缺陷。透網(wǎng)性差限制了高目數(shù)鎳網(wǎng)的使用,而抱水性差,則使印制精細(xì)線(xiàn)條時(shí),活性色漿“鋪漿”較涂料色漿更嚴(yán)重,這是活性印花很難生產(chǎn)出精細(xì)花型的主要原因。
為克服活性印花的這一缺陷,對(duì)精細(xì)花型,大多采用涂料防活性工藝。涂料印花有很多優(yōu)點(diǎn),如工藝簡(jiǎn)單、圖案輪廓清晰、色譜全、色漿調(diào)配方便、色澤重現(xiàn)性好等。除深色大塊面花型因粘合劑用量過(guò)多會(huì)造成手感發(fā)硬外,一般中淺色小花型的色牢度和手感都比較好。所以,小的精細(xì)花紋用涂料色漿印花,地色和一些大塊面花型用活性色漿印制,并不影響花布的整體風(fēng)格。涂料防活性工藝兼具涂料印花和活性印花的優(yōu)點(diǎn),與活性防活性工藝相比,操作更簡(jiǎn)單,而消費(fèi)者也青睞防印花布的獨(dú)特風(fēng)格,使涂料防活性印花工藝在印染企業(yè)非常流行。
2防印原理
可以從三方面進(jìn)行涂料防印活性。一是機(jī)械防印;二是破壞活性染料的上染條件;三是破壞活性染料。機(jī)械防印是指在織物上先印涂料色漿,在織物上形成一層大約幾微米厚的薄膜,以對(duì)后印的活性染料起到機(jī)械防染作用。破壞活性染料的上染條件是,使用釋酸型防印劑中和活性色漿中的堿劑,控制活性色漿的pH值在7以下,以破壞活性染料的上染固色條件。破壞活性染料是,使用還原型防印劑直接破壞后印的活性染料而達(dá)到防印。
因?yàn)獒屗釀┍冗原劑的穩(wěn)定性更好,所以在實(shí)際生產(chǎn)中一般用釋酸劑作防印劑。釋酸劑的種類(lèi)很多,經(jīng)過(guò)對(duì)比試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),用硫酸銨作防印劑的色漿印制的花型輪廓相對(duì)清晰、沾色輕,工藝容易控制。因此,在涂料防印色漿中加入適量的硫酸銨可做防印劑。涂料色漿中的硫酸銨與活性色漿中的堿劑中和,從而破壞活性染料固色條件而起到防印作用,其反應(yīng)式如下:
(NH4)2SO4+2NaHCO3→Na2SO4+2NH4HCO3
NH4HCO3→NH3↑+H20+CO2↑
根據(jù)酸堿中和反應(yīng),從理論上可得出硫酸銨用量與堿劑用量的質(zhì)量比例為66:84,也就是說(shuō)硫酸銨用量較小蘇打用量稍低即可。在實(shí)際生產(chǎn)中,由于織物對(duì)后印的活性染料色漿的吸收量很小,所以硫酸銨的用量也相應(yīng)減少,應(yīng)控制在1.5%以?xún)?nèi)。對(duì)一些不能防印的活性染料,可適當(dāng)增加硫酸銨的用量,但硫酸銨用量過(guò)大的弊端是使棉纖維脆損,影響織物的強(qiáng)力和手感,所以硫酸銨用量又不能太多,可控制在3%以?xún)?nèi)。
3防印工藝
3.1制版工藝設(shè)計(jì)
制作涂料防印花版時(shí),涂料色漿應(yīng)排在所有活性色漿的前面,如果需要用涂料漿防印的顏色較多,實(shí)際生產(chǎn)上可單獨(dú)設(shè)計(jì)涂料和活性?xún)商谆ò。根?jù)花型結(jié)構(gòu)特征和花版的設(shè)計(jì)要求,除一些精細(xì)線(xiàn)條外,對(duì)一些對(duì)花難度大的花版,相鄰兩色為對(duì)立色及容易傳色的花版,還有一些陰陽(yáng)版,用常規(guī)的反借、罩印及并線(xiàn)等手段無(wú)法得到花版要求的效果時(shí),我們也可以采用防印法。
制版時(shí),如果是較小的點(diǎn)、細(xì)線(xiàn),可直接采用活性罩印涂料;如果是較大的花型,我們可以用涂料定住輪廓,用一只或兩只同色圓網(wǎng)以反借法制版。
3.2色漿組成及調(diào)配
3.2.1涂料防印色漿
涂料防活性色漿一般由涂料、粘合劑、乳化糊、增稠劑、防印劑、保護(hù)膠體、吸濕劑等組成。
涂料是由各種顏料粉末加水、濕潤(rùn)劑、分散劑等表面活性劑及保護(hù)膠體等研磨調(diào)制而成,其穩(wěn)定性除顏料粉末本身特性外,主要取決于它的分散體系。
目前,工廠(chǎng)所用的粘合劑大多為丙烯酸酯(PA)類(lèi),主要為丙烯酸丁酯、丙烯腈、丁二烯、羥甲基丙烯酰胺等單體的共聚物。在弱酸性條件下,經(jīng)130—160%焙烘,PA類(lèi)粘合劑可自身交聯(lián)并粘附在纖維上,形成網(wǎng)狀薄膜,將涂料固著在纖維上。一般的弱酸(如硫酸銨)正好適合PA類(lèi)粘合劑的反應(yīng)條件,所以適量的硫酸銨不影響PA類(lèi)粘合劑的反應(yīng)。
乳化糊是煤油、水加乳化劑乳化而成,乳化劑質(zhì)量直接決定乳化糊的使用性能和穩(wěn)定性。
增稠劑是一種合成高分子類(lèi)糊料。如果用于防印色漿,需合理篩選增稠劑,必須選用成糊率高、耐電解質(zhì)的增稠劑。不同類(lèi)型增稠劑的試驗(yàn)如下:乳化糊中先分別加入適量不同的增稠劑已形成可用糊料,然后加人不等量的硫酸銨放置30min,觀察色漿變化情況(見(jiàn)表1)。
由表1知,加入耐電解質(zhì)類(lèi)增稠劑的色漿基本不受影響,可以滿(mǎn)足印花色漿的要求。釋酸劑硫酸銨也是一種電解質(zhì),加入后一定程度上會(huì)引起乳化糊破乳和色漿粘度下降。
涂料防活性色漿的穩(wěn)定性主要取決于糊料、乳化劑和增稠劑的性能?刹捎酶哔|(zhì)量的乳化劑和加人保護(hù)膠體,海藻酸鈉就是一種很好的保護(hù)膠體。為了減慢水分的蒸發(fā),利于印花生產(chǎn),可在色漿中加人3%的尿素作為吸濕劑。
值得注意的是,罩白漿和熒光顏料色漿不適合涂料防活性印花生產(chǎn)。原因是罩白漿中有大量的鈦白粉,容易吸附活性染料,印花后水洗,活性染料不易洗除,影響防印效果;而熒光顏料因?yàn)樵硐蠢味炔,印花后水洗,發(fā)生嚴(yán)重皂洗變色而影響花布色光,使整體花布效果發(fā)生很大變化。如果確實(shí)需要罩白防印,可以使用罩防漿替代罩白漿。罩防漿用特種膠體制作的白漿,不含鈦白粉,不影響防印效果。
最終確定的涂料防活性色漿組成,如表2所示。
涂料防活性色漿的加料順序?yàn)椋?1)加人一定量乳化糊和粘合劑;(2)加入適量保護(hù)膠體;(3)高速攪拌的同時(shí),加人適量增稠劑,攪拌10min;(4)邊攪拌邊加人涂料;(5)加人提前化好的硫酸銨;(6)加入軟化水至色漿總量;(7)再用增稠劑將色漿調(diào)至所需粘度。涂料防活性色漿要求粘度較高,一般控制在500odPa·S以上,這樣的色漿不會(huì)因滲化而產(chǎn)生防印“白邊”現(xiàn)象。
用罩防漿配制防印白漿,則沒(méi)有調(diào)漿順序要求。
3.2.2活性色漿的組成/g·kg
在調(diào)制活性色漿時(shí),可先將活性染料、尿素、防染鹽S等,用80℃的熱水溶解,然后將染液濾人海藻酸鈉糊中,最后加入預(yù)先溶解好的堿劑溶液,再加水至所需量,攪拌均勻,用糊料調(diào)至所需粘度,一般在4000—5000dPa·s,以保證良好的流動(dòng)性和均勻性。
3.3圓網(wǎng)印花工藝流程
印花→烘干→蒸化(102oC*10min)→焙烘(120—150oC*3min)→水洗(皂煮)→烘干
印花時(shí),圓網(wǎng)排網(wǎng)順序?yàn)椋和苛戏烙{在前,活性色漿在后。開(kāi)車(chē)時(shí)刮刀壓力不要太大,以減少滲化,保證印花紋精細(xì)。涂料防活性印花必須嚴(yán)格控制車(chē)速、壓力及色漿粘度等工藝條件,避免印制的涂料花型出現(xiàn)前后變化,造成防印效果改變。
3.4成品指標(biāo)
對(duì)本公司采用涂料防活性印花工藝生產(chǎn)的純棉府綢(15tex*15tex524根/10cm*283根/10cm)進(jìn)行檢測(cè),各項(xiàng)物理色牢度指標(biāo)見(jiàn)表3。
防印“白邊”是防印工藝較容易出現(xiàn)的現(xiàn)象,實(shí)際上是因?yàn)榉烙{被電解質(zhì)破壞,色漿滲化而產(chǎn)生的過(guò)防現(xiàn)象。本文所述涂料防活性色漿在生產(chǎn)時(shí)不會(huì)出現(xiàn)“白邊”。如果客戶(hù)要求必須有“白邊”,可以使用不耐電解質(zhì)的增稠劑,將硫酸銨控制在3%,將色漿提前1h左右調(diào)配好,再上車(chē)印制即可。
4結(jié)語(yǔ)
我公司采用涂料防活性印花工藝,每年生產(chǎn)印花布上百萬(wàn)米,其中包括很多對(duì)花難度大、花紋精細(xì)的花版。在實(shí)際生產(chǎn)中,應(yīng)根據(jù)不同的花型制作涂料防活性色漿,以提高活性印花的精細(xì)度及一等品率。
來(lái)源:中華印染網(wǎng)
該文章暫時(shí)沒(méi)有評(píng)論!
最新技術(shù)文章
點(diǎn)擊排行